與電弧PVD工藝不同，在濺射PVD工藝中，涂層材料并沒有被首先熔化后變為氣體，而是從固體直接轉變為氣體狀態。因此能夠確保在整個氣化過程中不形成液滴（在涂層表面的珠形微粒子），并因此而生成非常光滑的涂層表面。此外，生產濺射PVD涂層的溫度范圍大大低于CVD工藝所需的溫度范圍。從理論上說，濺射PVD涂層對于元素的選擇沒有限制–這點完全區別于電弧PVD和CVD工藝。濺射技術打開了對涂層材料進行無限選擇和組合的大門。

濺射技術的市場領跑者

20年以來，濺射PVD工藝已經構成了高品質涂層的基礎。在此期間，我們開發的涂層系統第一次使對新材料的經濟加工成為可能，并可明顯改善刀具的使用性能。

我們擁有的在涂層、工藝和技術方面的多項專利證明了我們無可比擬的市場領跑者的地位。早在1988年，CemeCon就已經在TiAlN涂層的工業規模化應用方面取得了成功。

CemeCon涂層系統的優點：

表面極其光滑

高硬度和高熱硬性

結合力超強

抗氧化溫度高

低摩擦系數

極小的內應力

對刃口鈍化小

具有成本效益的大批量與小批量的生產

靈活選擇涂層材料

確保一個美好的未來，幾乎可以在任何基體上涂覆任何涂層材料

PVD濺射工藝

生產出極其光滑的涂層